中国・香港・マカオにおける特許・商標・意匠を中心とした模倣品対策
昨今、経済のグローバル化に伴い、中小・ベンチャー等の日本企業の海外進出が活発化しています。
特に、日本企業の製品に対する模倣被害・産業財産権侵害の事例があとを絶たず、経済活動の大きな妨げとなっています。このような状況に対して適切に対処するためには、諸外国における産業財産権（特許権、商標権、意匠権等）を取得し、権利行使を行うことが肝要であります。
第一部の説明会においては、模倣被害・産業財産権侵害対策に詳しい知見を有する「模倣被害アドバイザー」を講師として、中小・ベンチャー企業の観点から、自社製品が模倣被害に直面し、産業財産権を侵害された場合、（又は、他社から権利侵害の警告を受けた、逆の場合も含め）どのように対応するかを、中国等の産業財産権の制度や具体的な事例を交えて分かりやすく説明します。
- 開催日：23年2月14日 10時～
- 会場：広島発明会館
- 講師：張 立岩 氏
- 参加費：0 円
- 申込方法・締め切り：
発明協会広島県支部への申込みが必要です。
詳しくは下記のＨＰをご覧ください。
http://www1.odn.ne.jp/jiii-hiroshima/
